TaNiS5 晶体

品名：TaNiS5 晶体

制造方法：化学气相沉积法， Chemical Vapor Deposition （CVD）

产品简介：

晶体大小：3-10nm

晶体种类：Magnetic semiconductor

纯度：>99.999%

表征方法：EDS，SEM，Raman

晶体生长方式：CVD化学气相传输法

应用领域：

光电器件，微电子器件，生物传感，化学传感等领域。